集成电路布图设计保护条例（2026年） 第四条

第四条 中国自然人、法人或者非法人组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人、外国企业或者外国其他组织创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人、外国企业或者外国其他组织创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。